Rietveld 法全譜擬合已成為X射線多晶衍射修正晶體結(jié)構(gòu)的重要方法。本書共為四
章，側(cè)重從操作示例來介紹Rietveld法的原理和精修基本過程。第一章簡要介紹了
Rietveld法結(jié)構(gòu)精修的發(fā)展概況和基本原理。第二章主要介紹EXPGUI-GSAS軟件安裝和
界面。第三章簡要介紹Rietveld法Ｘ射線多晶衍射數(shù)據(jù)的實(shí)驗(yàn)技術(shù)，以 簡單的例子演
示EXPGUI-GSAS軟件Rietveld精修的基本過程、精修結(jié)果的提取以 及圖譜的繪圖，并給
出了空間群設(shè)定問題的解決、精修角度范圍設(shè)定和定制EX-PGUI 等內(nèi)容。第四章給出了
五個(gè)提高練習(xí)示例，包括儀器參數(shù)文件的建立、含非 晶混合物的定量分析、Le Bail法
擬合及占位修正、峰形參數(shù)計(jì)算晶粒尺寸和微觀 應(yīng)變以及批量精修等。本書具有很強(qiáng)
的實(shí)用性，可以作為材料、化學(xué)以及地質(zhì)等領(lǐng)域使用 Rietveld法 進(jìn)行結(jié)構(gòu)精修的研究
人員的入門參考書，也可以作為本科生、研究生教學(xué)的實(shí)驗(yàn)教材。

目 錄

1  Rietveld法結(jié)構(gòu)精修

1.1  Rietveld法結(jié)構(gòu)精修發(fā)展概況

1.2  Rietveld法基本原理

1.3  參數(shù)修正順序與結(jié)果判據(jù)

1.3.1  參數(shù)修正的順序

1.3.2  精修的數(shù)值判據(jù)

1.3.3  精修的圖示判斷

1.4  精修過程出現(xiàn)的問題和對策

1.5  Rietveld法結(jié)構(gòu)精修的應(yīng)用

1.5.1  修正晶體結(jié)構(gòu)

1.5.2  相變研究和點(diǎn)陣常數(shù)測定

1.5.3  物相定量分析

1.5.4  晶粒尺寸和微應(yīng)變測定

2  EXPGUI-GSAS軟件安裝與界面介紹

2.1  GSAS軟件簡介

2.2  EXPGUI-GSAS軟件的安裝

2.3  EXPGUI-GSAS軟件界面介紹

2.3.1  菜單欄

2.3.2  選項(xiàng)卡界面

2.3.3  EXPGUI幫助內(nèi)容

3  EXPGUI-GSAS結(jié)構(gòu)精修起步

3.1  精修前的準(zhǔn)備工作

3.1.1  衍射數(shù)據(jù)的測定

3.1.2  衍射數(shù)據(jù)的轉(zhuǎn)換

3.1.3  初始結(jié)構(gòu)的獲取

3.2  EXPGUI精修簡單示例

3.2.1  生成EXP文件

3.2.2  精修過程

3.2.3  常見問題

3.3  精修結(jié)果提取與繪圖

3.3.1  精修結(jié)果提取

3.3.2  精修圖譜繪圖

3.4  空間群設(shè)定問題及圖譜精修范圍設(shè)定

3.4.1  空間群設(shè)定問題及解決

3.4.2  設(shè)定精修角度范圍

3.5  定制EXPGUI

3.5.1  設(shè)定打開EXPGUI后默認(rèn)文件夾位置

3.5.2  定制EXPGUI的快捷按鈕欄

4  EXPGUI-GSAS提高練習(xí)

4.1  儀器參數(shù)文件的建立

4.1.1  基本知識(shí)

4.1.2  操作過程

4.2  物相（含非晶）定量分析

4.2.1  基本原理

4.2.2  衍射數(shù)據(jù)測試

4.2.3  精修過程

4.3  Le Bail法擬合及占位修正(約束的使用)

4.3.1  問題描述

4.3.2  精修過程

4.4  計(jì)算晶粒大小及微觀應(yīng)變

4.4.1  基本原理

4.4.2  具體步驟

4.4.3  晶粒尺寸和微觀應(yīng)變計(jì)算示例

4.5  利用已有EXP進(jìn)行單個(gè)數(shù)據(jù)及批量精修

4.5.1  利用已有EXP進(jìn)行單個(gè)數(shù)據(jù)精修

4.5.2  批量精修

參考文獻(xiàn)